真空爐是一種在爐腔這一特定空間內(nèi)利用真空系統(tǒng)將爐腔內(nèi)部分物質(zhì)排出，使?fàn)t腔內(nèi)壓強(qiáng)小于一個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，爐腔內(nèi)空間從而實現(xiàn)真空狀態(tài)的一種設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于陶瓷材料、陶瓷金屬復(fù)合材料、難熔金屬、合金材料的高溫真空燒結(jié)、退火、回火、時效處理等，以及合金刀具、超硬材料的真空釬焊。
　　
　　真空爐由爐膛、加熱元件、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、密封爐殼等組成。爐膛分為不銹鋼爐膛、陶瓷纖維爐膛、鉬箔爐膛、石墨爐膛，額定溫度從750℃至2200℃。加熱元件主要分為電阻絲、硅碳棒、鉬絲鉬桿、硅鉬棒、石墨、感應(yīng)線圈等，最高溫度從750℃至2200℃。
　　
　　真空爐的溫控系統(tǒng)主要由熱電偶（測溫）以及溫度控制器（控溫）組成，主要分為PID可編程控制、觸摸屏控制以及PLC全自動控制。真空系統(tǒng)根據(jù)所需的真空度由真空閥門、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、羅茨泵組成，最高真空度一般為7×10-3Pa。水冷系統(tǒng)根據(jù)爐膛大小需要相匹配的水冷系統(tǒng)，保證真空爐能正常工作。
　　
　　相比傳統(tǒng)爐窯，真空爐具有以下優(yōu)點：
　　
　　1.加熱均勻，適用于各種材料：能夠提供均勻的加熱環(huán)境，適用于各種材料和工藝。
　　
　　2.減少氧化：在真空中加熱可以減少材料的氧化，從而提高材料的質(zhì)量。
　　
　　3.快速加熱：可以在短時間內(nèi)將材料加熱到所需溫度，提高了生產(chǎn)效率。
　　
　　4.易于控制：真空爐的控制系統(tǒng)可以精確控制加熱溫度和時間，從而確保生產(chǎn)過程中的質(zhì)量和一致性。
　　
　　5.節(jié)能環(huán)保：由于可以在較低的溫度下進(jìn)行加熱，因此可以節(jié)省能源并減少對環(huán)境的影響。
　　
　　6.適用于各種應(yīng)用：可以用于各種應(yīng)用，如陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊，以及陶瓷-金屬封接等。
　　
　　總之，真空爐是一種高效、節(jié)能、環(huán)保的加熱設(shè)備，適用于各種材料和工藝，具有廣泛的應(yīng)用前景。